İş inovasyonunu en üst düzeye çıkararak iş potansiyelinizi ortaya çıkarıyoruz.
Eposta GönderTetraetil Ortosilikat, Tetraethyl Orthosilicate, Tetra Etoksi Silan, Tetra Ethoxy Silane, Etil Silikat, Ethyl Silicate, Silikon Etoksit, Silicon Ethoxide, TEOS, 78-10-4
Özellik | Değer |
---|---|
CAS No | 78-10-4 |
Kimyasal Formül | Si(OC₂H₅)₄ |
Molekül Ağırlığı | 208.33 g/mol |
Yoğunluk | 0.933 g/mL (20 °C) |
Kaynama Noktası | 168 °C |
Parlama Noktası | 45 °C |
Su ile reaksiyon | Hidroliz olur, SiO₂ ve etanol üretir |
Görünüm | Renksiz, keskin kokulu sıvı |
Çözünürlük | Etanol ve izopropanolde çözünür, su ile tepkimeye girer |
Kimyasal sentez: TEOS, genellikle aşağıdaki reaksiyonla üretilir: SiCl₄ + 4 EtOH → Si(OC₂H₅)₄ + 4 HCl
Bu işlem, silikon tetraklorürün etanol ile alkoliz reaksiyonuna dayanır.
Endüstriyel üreticiler: Evonik, Sigma-Aldrich, Wacker ve Momentive gibi global üreticiler tarafından teknik ve elektronik sınıflarda sunulur.
Formlar: %98–99 saflıkta sıvı formda, genellikle metal kaplı IBC veya HDPE bidonlarda ambalajlanır.
Alternatif | Açıklama | Kullanım Alanı |
---|---|---|
TMOS (Tetramethyl Orthosilicate) | Daha uçucu, daha hızlı hidroliz olur | Sol-gel prosesleri, ince film kaplama |
Sodium Silicate | Sulu çözelti formunda, düşük maliyetli | Döküm bağlayıcı, su yalıtım |
Ethyl Silicate 40 | TEOS’un polimerize versiyonu | Seramik bağlayıcı, pas önleyici kaplama |
Silicic Acid Esters | Özel formülasyonlar | Zeolit sentezi, optik cam üretimi |
Yarı iletken endüstrisi: SiO₂ ince film üretimi, yalıtım tabakaları
Sol-gel prosesleri: Monodisperse silika partikülleri üretimi (Stöber yöntemi)
Seramik kalıp bağlayıcıları: Döküm sektöründe silika bazlı kalıp üretimi
Kaplama teknolojileri: Halı, cam, metal ve ahşap yüzeylerde su ve oksijen bariyeri
Aerogel üretimi: Hafif, gözenekli malzeme sentezi
Zeolit sentezi: Katalizör taşıyıcı ve adsorban üretimi
Pasivasyon kaplamaları: Metal yüzeylerde yüksek sıcaklık ve nem direnci
TEOS (Tetraethyl Orthosilicate) Kullanım yerleri detaylı:
Amaç: SiO₂ bazlı ince film, kaplama ve partikül üretimi
Yöntem: TEOS, kontrollü hidroliz ve kondensasyon reaksiyonlarıyla silika ağları oluşturur
Kullanım Alanları:
Optik kaplamalar (anti-reflektif, UV bariyer)
Hidrofobik ve oleofobik yüzeyler
Monodisperse silika partikülleri (Stöber yöntemi)
Amaç: Silikon dioksit (SiO₂) tabakalarının üretimi
Yöntem: CVD (Chemical Vapor Deposition) veya spin-coating sonrası pişirme ile
Kullanım Alanları:
Mikroçip izolasyon tabakaları
Dielektrik kaplamalar
MEMS cihaz üretimi
Amaç: Gözenekli taşların güçlendirilmesi ve su geçirmezlik sağlanması
Yöntem: TEOS, taş yüzeyine uygulandığında hidrolizle SiO₂ oluşturur ve mikroskobik çatlakları doldurur
Kullanım Alanları:
Tarihi yapı restorasyonu
Mermer, traverten, kumtaşı gibi doğal taşlar
Amaç: Silika kaynak maddesi olarak kullanılır
Yöntem: Hidrotermal sentezde TEOS, alüminyum kaynaklarıyla birlikte zeolit kafes yapısını oluşturur
Kullanım Alanları:
Petrol rafinasyon katalizörleri
Adsorban üretimi
Amaç: Çapraz bağlayıcı ve su bariyeri olarak görev alır
Yöntem: Organosilikon reçinelerle birlikte kullanıldığında TEOS, ağ yapısını güçlendirir
Kullanım Alanları:
Halı ve tekstil kaplamaları
Ahşap ve metal yüzey koruyucuları
Isıya dayanıklı boya sistemleri
Amaç: Ultra hafif, gözenekli SiO₂ yapılar üretmek
Yöntem: Sol-gel sonrası süperkritik kurutma ile aerogel elde edilir
Kullanım Alanları:
Isı yalıtımı
Akustik bariyerler
Uzay teknolojileri
İsim / Alias | Açıklama |
---|---|
Tetraethyl Orthosilicate | En yaygın ve tam kimyasal adı |
Tetraethoxysilane | IUPAC sistemine uygun alternatif |
Ethyl Silicate | Ticari dökümanlarda sıkça kullanılır |
Silicon Tetraethoxide | Organosilikon sınıflandırmasında geçer |
Si(OC₂H₅)₄ | Moleküler formül olarak kullanılır |
TEOS | Kısaltma – teknik dökümanlarda ve ERP sistemlerinde yaygın |
Silicic Acid, Tetraethyl Ester | Kimyasal sınıflandırmada alternatif tanım |
Silicon Ethoxide | Bazı üretici kataloglarında geçer. |